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产品特性包括上电自动找零位、闭环误碰后自动归位,以及耐磨材料、真空无磁兼容等,适用于半导体技术测试、晶圆检测等多种应用领域。N31系列还具备断电自锁功能,确保在断电后能自动归位,并且在负载下仍能保持高精度运动。技术参数方面,如速度上限、闭环分辨率和线性度等均达到行业领先水平。
激光蚀刻技术具有非接触方式加工、高柔性、高速、无噪声、热影响区小、可聚焦至激光波长级的极小光斑等技术特征,广泛应用于打眼、划片、刻蚀、切割等多个领域,尤其是在与某些材料的“光化学作用”方面,能够获得无碳化效果的“冷加工”。芯明天P12A压电扫描台在飞秒激光刻蚀应用中的角色至关重要。
压电纳米定位台的应用广泛,从通用型纳米定位台到压电式移相器、压电扫描台、压电显微成像台等,覆盖了扫描显微、光路调整、纳米操控、生物科技、激光干涉、光通信、CCD图像处理、显微成像/操作、纳米压印/光刻、纳米定位/测量、共焦显微、AFM等领域。
以不同应用要求进行选择,涵盖光开关、光学对准、视光学、机械学、流体学等广泛的领域,特别适用于需要高精度、快速响应及小体积的场合。使用机构放大促动器需要注意安全与安装事宜,包括温度与压力影响、适当电压范围、防止负载过度、保持清洁、避免外力撞击与不当操作等。正确使用及维护以确保产品性能与使用寿命。
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